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去離子水清洗增壓泵

WAFER去離子水清洗增壓泵

DIW Cleaning Pumps For Wafer

  • 半導體行業(yè)專用;
  • 氣動增壓,單向單作用,或雙向雙作用;
  • 適用介質:NMP/DIW等(具體介質請電詢)
  • 最高壓力可達35MPa;
  • 高可靠性,長壽命,經多家fab廠現場驗證;
  • 嚴格的質量控制,出廠100%壓力試驗。