用于晶圓二氧化碳雪花洗,清洗力柔和,不損傷表面
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用于水導激光恒壓供水,PLC自動控制,最高壓力達60MPa。
半導體晶圓超臨界二氧化碳清洗模塊,集成表閥等控制元件
半導體晶圓化學品清洗模塊,集成表閥等控制元件
半導體晶圓DIW清洗模塊,集成表閥等控制元件
半導體專用化學清洗增壓泵,適用于半導體晶圓化學清洗或除膠,有50和37.5兩種比例
半導體專用,去離子水清洗增壓泵,適用于半導體晶圓去離子水清洗,嚴格的pa控制,多種比例可選
提供半導體晶圓清洗用增壓泵的專業(yè)維修服務